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100w太阳能板RCA清洗方法及原理
文章来源:本站原创 浏览: 发表时间:2018/7/25 17:32:07

RCA清洗方法及原理

  在生产中,对于硅片表面的清洗中常用RCA方法及基于RCA清洗方法的改进,RCA清洗方法分为Ⅰ号清洗剂(APM)和Ⅱ号清洗剂(HPM)。Ⅰ号清洗剂(APM)的配置是用去离子水、30%过氧化氢、25%的氨水按体积比为:5:1:1至5:2:1;Ⅱ号清洗剂(HPM)的配置是用去离子水、30%过氧化氢、25%的盐酸按体积比为:6:1:1至8:2:1。其清洗原理是:氨分子、氯离子等与重金属离子如:铜离子、铁离子等形成稳定的络合物如:[AuCl4]-、[Cu(NH3)4]2+、[SiF6]2-。

  清洗时,一般应在75~85℃条件下清洗、清洗15分钟左右,然后用去离子水冲洗干净。Ⅰ号清洗剂(APM)和Ⅱ号清洗剂(HPM)有如下优点:

  (1)这两种清洗剂能很好地清洗硅片上残存的蜡、松香等有机物及一些重金属如金、铜等杂质;

  (2)相比其它清洗剂,可以减少钠离子的污染;

  (3)相比浓硝酸、浓硫酸、王水及铬酸洗液,这两种清洗液对环境的污染很小,操作相对方便。

  2.超声波在清洗中的作用

  目前在半导体生产清洗过程中已经广泛采用超声波清洗技术。超声波清洗有以下优点:

  (1)清洗效果好,清洗手续简单,减少了由于复杂的化学清洗过程中而带来的杂质的可能性;

  (2)对一些形状复杂的容器或器件也能清洗。

  超声波清洗的缺点是当超声波的作用较大时,由于震动磨擦,可能使硅片表面产生划道等损伤。

  超声波产生的原理:高频震荡器产生超声频电流,传给换能器,当换能器产生超声震动时,超声震动就通过与换能器连接的液体容器底部而传播到液体内,在液体中产生超声波。

  3.真空高温处理的清洗作用

  硅片经过化学清洗和超声波清洗后,还需要将硅片真空高温处理,再进行外延生长。真空高温处理的优点:

  (1)由于硅片处于真空状态,因而减少了空气中灰尘的玷污;

  (2)硅片表面可能吸附的一些气体和溶剂分子的挥发性增加,因而真空高温易除去;

  (3)硅片可能玷污的一些固体杂质在真空高温条件下,易发生分解而除去。

 
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